优点

软微影技术具有一些独特的优势比其他形式的微影(光刻)技术（如光刻和电子束光刻）。 它们包括以下内容： 1.更低的成本比传统微影技术大量生产。 2.非常适合应用在生物技术。 3.非常适合应用在塑胶电子。 4.非常适合于超大型平面，或及非平面（nonflat）微影。 5.不需要制作光罩，即可制造一个小的细节设计比一般微影实验室设备的（30〜100纳米）差不多。

缺点

现在的集成电路包含了好几层不同的材料，PDMS压模的扭曲变形会导致复制图案的小误差，也使上下层做好的图形排列得不整齐。即使是最微小的排列误差或扭曲，都会损坏多层奈米电子装置。因此，软蚀刻法不适合制造需要精准堆叠的多层结构。此缺点可藉热压成形式奈米压印或步进光感式奈米压印来改善之。

参见

光刻

微机电系统

微流控

参考资料

Xia, Y.; Whitesides, G. M.Soft Lithography. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1998, 37: 551–575. doi:10.1002/(SICI)1521-3773(19980316)37:53.0.CO;2-G. 

Xia, Y.; Whitesides, G. M. Soft Lithography. In. Annu. Rev. Mater. Sci. 1998, 28: 153–184. doi:10.1146/annurev.matsci.28.1.153. 

Quake, S. R.; Scherer, A. From micro- to nanofabrication with soft materials. Science. 2000, 290 (5496): 1536–1540. PMID 11090344. doi:10.1126/science.290.5496.1536. 

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