拓扑绝缘体
预言和发现
拓扑保护的边缘状态(一维)在碲化汞/碲化镉量子阱中被预言于1987年,随后于2007年由实验观测证实。很快,拓扑绝缘体又被预言存在于含铋的二元化合物三维固体中。第一个实验实现的三维拓扑绝缘体在锑化铋中被观察到,随后不同实验组又通过角分辨光电子谱的方法,在锑,碲化铋,硒化铋,碲化锑中观察到了拓扑保护的表面量子态。现在人们相信,在其他一些材料体系中,也存在拓扑绝缘态。在这些材料中,由于自然存在的缺陷,费米能级实际上或是位于导带或是位于价带,必须通过掺杂或者通过改变其电势将费米能级调节到禁带之中。
类似的边缘效应同样出现于量子霍尔效应之中,但仅在强垂直磁场,低温的二维系统现。
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Witze, Alexandra.Topological Insulators: Physics On the Edge. Science News. 2010.
Brumfield, Geoff.Topological insulators: Star material : Nature News. Nature. 2010, 466 (7304): 310–311 [2010-08-06]. doi:10.1038/466310a. PMID 20631773.
Murakami, Shuichi.Focus on Topological Insulators. New Journal of Physics. 2010.
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