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拓扑绝缘体

2020-10-16
出处:族谱网
作者:阿族小谱
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预言和发现拓扑保护的边缘状态(一维)在碲化汞/碲化镉量子阱中被预言于1987年,随后于2007年由实验观测证实。很快,拓扑绝缘体又被预言存在于含铋的二元化合物三维固体中。第一个实验实现的三维拓扑绝缘体在锑化铋中被观察到,随后不同实验组又通过角分辨光电子谱的方法,在锑,碲化铋,硒化铋,碲化锑中观察到了拓扑保护的表面量子态。现在人们相信,在其他一些材料体系中,也存在拓扑绝缘态。在这些材料中,由于自然存在的缺陷,费米能级实际上或是位于导带或是位于价带,必须通过掺杂或者通过改变其电势将费米能级调节到禁带之中。类似的边缘效应同样出现于量子霍尔效应之中,但仅在强垂直磁场,低温的二维系统中出现。更多阅读Moore,Joel.TheBirthofTopologicalInsulators.Nature.2010,464(7286):194.doi:10.1038/nature08916.PMID20220

预言和发现

拓扑保护的边缘状态(一维)在碲化汞/碲化镉量子阱中被预言于1987年,随后于2007年由实验观测证实。很快,拓扑绝缘体又被预言存在于含铋的二元化合物三维固体中。第一个实验实现的三维拓扑绝缘体在锑化铋中被观察到,随后不同实验组又通过角分辨光电子谱的方法,在锑,碲化铋,硒化铋,碲化锑中观察到了拓扑保护的表面量子态。现在人们相信,在其他一些材料体系中,也存在拓扑绝缘态。在这些材料中,由于自然存在的缺陷,费米能级实际上或是位于导带或是位于价带,必须通过掺杂或者通过改变其电势将费米能级调节到禁带之中。

类似的边缘效应同样出现于量子霍尔效应之中,但仅在强垂直磁场,低温的二维系统现。

更多阅读

Moore, Joel. The Birth of Topological Insulators. Nature. 2010, 464 (7286): 194. doi:10.1038/nature08916. PMID 20220837. 

Kane, C. L.; Mele, E. J. A New Spin on the Insulating State. Science. 2006, 314 (5806): 1692. doi:10.1126/science.1136573. PMID 17170283. 

Kane, C.L. Topological Insulator: An Insulator with a Twist. Nature. 2008, 4 (5): 348. doi:10.1038/nphys955. 

Witze, Alexandra.Topological Insulators: Physics On the Edge. Science News. 2010. 

Brumfield, Geoff.Topological insulators: Star material : Nature News. Nature. 2010, 466 (7304): 310–311 [2010-08-06]. doi:10.1038/466310a. PMID 20631773. 

Murakami, Shuichi.Focus on Topological Insulators. New Journal of Physics. 2010. 


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